Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme

Beschreibung

Herstellung, Vertrieb und Service von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Genaueres entnehmen Sie bitte aus dem Lastenheft.

Amtliche Quelle

Quelle: TED — Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Prüfen Sie alle Angaben stets in der amtlichen Bekanntmachung.

Zur amtlichen Bekanntmachung

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Eckdaten

Auftraggeber: Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der Materie
Land: Deutschland · DE600
Veröffentlicht: 25 Mär 2026
Verfahren: Nichtoffenes Verfahren; EU-weit (oberhalb des Schwellenwerts)
Originalsprache: de
CPV-Codes: 31712000 31720000 38000000

Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme – Reactive ion etcher

Beschreibung

Amtliche Quelle

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