Italia – Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici – Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Description

Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

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Source: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Key facts

Buyer: Istituto Italiano di Tecnologia
Country: Italy · ITC33
Published: 29 Jun 2026
Procedure: Open procedure; EU-wide (above threshold)
Original language: it
CPV codes: 38970000