Italia – Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici – Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Descripción

Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Fuente oficial

Fuente: TED — Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Datos clave

Órgano de contratación: Istituto Italiano di Tecnologia
País: Italia · ITC33
Publicada: 17 mar. 2026
Fecha límite: 21 abr. 2026, 00:00
Procedimiento: Procedimiento abierto; Ámbito UE (sobre umbral)
Idioma original: it
Códigos CPV: 38970000