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Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Aperta Bando di gara 13 lug 2026 5 giorni rimasti

Descrizione

Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten

Fonte ufficiale

Fonte: TED — Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Dati principali

Stazione appaltante: Technische Universität München
Paese: Germania · DE21H
Pubblicata: 11 giu 2026
Scadenza: 13 lug 2026, 00:00
Procedura: Procedura aperta; Scala UE (sopra soglia)
Lingua originale: de
Codici CPV: 31712100