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France – Matériel de gravure sèche – Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

Cerrada Anuncio de licitación 23 mar. 2026

Descripción

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

Fuente oficial

Fuente: TED — Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Datos clave

Órgano de contratación: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
País: Francia · FRK24
Publicada: 9 feb. 2026
Fecha límite: 23 mar. 2026, 00:00
Procedimiento: Procedimiento abierto; Ámbito UE (sobre umbral)
Idioma original: fr
Códigos CPV: 22520000 38000000